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ICS 29..045 H ·80 中华人民共和国国家标准 GB/T 13387—2009 代替GB/T13387-1992 硅及其他电子材料晶片参考面长度测量方法 Test method for measuring flat length wafers of silicon and other electronic materials 2009-10-30发布 2010-06-01实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布中国国家标准化管理委员会 GB/T 13387-2009 前言本标准修改采用SEMIMF671-0705《硅及其他电子材料晶片参考面长度测试方法》。本标准与SEMIMF671-0705相比主要有如下变化：标准编写格式按GB/T1.1要求进行编写；1 增加了前言内容。本标准代替GB/T13387—1992《电子材料晶片参考面长度测试方法》。本标准与GB/T13387—1992相比主要有如下变化：细化了测量范围的内容，如该方法中涉及的公英制单位等； -增加了该方法的局限性内容；一增加了部分术语，定义了测量中用到的偏移；增加了引用标准； -将原标准中的试样改为抽样章节；将校准和测量分为两章分别叙述；一精密度采用了SEMIMF671-0705中多个实验室间的评价，并附有较详细的说明。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。本标准起草单位：有研半导体材料股份有限公司。本标准主要起草人：杜娟、孙燕、卢立延。本标准所代替标准的历次版本发布情况为： GB/T13387—1992。

GB-T 13387-2009 硅及其它电子材料晶片参考面长度测量方法

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